今天来给大家分享一下关于硅片清洗后有水印怎么办的问题，以下是对此问题的归纳整理，让我们一起来看看吧。
硅片清洗后有水印怎么办
硅片清洗后有水印怎么办呢？一起来和小编了解一下吧。
一、硅片清洗后有水印怎么办
1、冲洗不干净，可以拿一些干净的硅片再重新清洗一次，不要过清洗剂槽，看是否有水印出现，若无，则是清洗剂的问题，调整即可。
2、烘干不够，将硅片在进入烘干通道前取出甩干或吹干，看是否有水印，如无，则是加大烘干通道的力度。
3、水中杂质含量过高，造成不易清洗，清除水中的杂质即可。
二、硅片清洗工艺步骤有哪些
吸附在硅片表面上的杂质可分为分子型、离子型和原子型三种情况。其中分子型杂质与硅片表面之间的吸附力较弱，清除这类杂质粒子比较容易。它们多属油脂类杂质，具有疏水性的特点，对于清除离子型和原子型杂质具有掩蔽作用。
因此在对硅片进行化学清洗时，首先应该把它们清除干净。离子型和原子型吸附的杂质属于化学吸附杂质，其吸附力都较强。
在一般情况下，原子型吸附杂质的量较小，因此在化学清洗时，先清除掉离子型吸附杂质，然后再清除残存的离子型杂质及原子型杂质。
最后用高纯去离子水将硅片冲冼干净，再加温烘干或甩干就可得到洁净表面的硅片。
清洗硅片的一般工艺程序为：去分子→去离子→去原子→去离子水冲洗。为去除硅片表面的氧化层，常要增加一个稀氢氟酸浸泡步骤。
小编今日的分享了，希望可以帮助到大家。
以上就是对于硅片清洗后有水印怎么办问题的介绍，希望对您有所帮助！如果能碰巧解决你现在面临的问题，别忘了关注本站。
参考来源：http://www.nbruiy.com/xiaoxuezuowen/1222954.html
